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誉：上下结构，中宫收紧。
上部“與”上收下展，对称均匀。上面部分整体稍抗肩，因笔画较多，不可写重。左竖起笔后向右下方行笔，第二竖起笔稍高，垂直下行；小横与第二竖上端平齐，不可长；竖折折的竖笔高起，上重下轻，到位后往右错笔轻顿接着下行，稍左斜；下一笔写里面的小竖，要轻巧；右边横折横画与小横平齐，一带而过，顿笔稍重，转折内扣向左下方行笔；（注意，诸竖的收笔应左低右高）里面的两横写成两小点，轻重不一；中间横画稍长、稍抗肩，注意行笔的细微变化，稍呈拱形，畅朗舒展；撇捺宜伸，皆从横画中起笔，注意起笔位置和开张角度，捺角与撇尖平齐，波脚稍长。
下部“言”上轻下重，迎就靠上，点笔居正；三横要轻灵自然，稍抗肩，平行等距，注意轻重及收笔的变化；最后“口”形扁，上窄下宽，与上部正对，笔画厚重，以稳住整字。
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